苏州某光电器件基带芯片制做厂，晶圆加工进行除理流程中带来含硅、氟的特俗生产废水除理，设计构思进行除理企业规模1200吨/日。生产废水除理基本成分更复杂，内含nm级硅小粒及盐酸，传统意义进行除理具体方法难于不合格。 生活污水化学物质及来历 注意影响物 ：悬浊液硅（100-500nm粒度）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 因素步骤 ：晶圆刻蚀废污水（45%）、CMP化学式自动化拋光废污水（40%）、装备擦拭水（15%） 加工处理方法程序 去创新按照"化学上的发展+特殊膜溶合"技艺的路线： 钙盐积累 ：添加氯化钙取除氟化合物（提取CaF2析出） 二沉池发应 ：软型斜管沉淀池剂体现橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜虚报冒领微细粒子 超滤工作会更系統 ：脱盐率>98%，出售率75% 化掉晶粒 ：浓水段构建氟化物零尾气排放 后面效果好 氟化物浓度值：<8mg/L（达不到国度三级细则10mg/L） 硅分量：<5mg/L 水物资工业废水处理率：70%在闭式圆形逆流式冷却塔塔补水保湿 危废处理减量化：化掉渣子量较民俗制作工艺减低60%